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水處理領域整體解決方案供應商
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電子半導體

電子半導體生產用超純水對TOC、DO、SIO2、Particulate的控制極其嚴格,達到PPb級,產水水質要求在18.2MΩ*cm(25℃)以上。

工藝流程:2B3T的工藝流程制作超純水
設備優點

2B3T工藝經常用在大用水量的半導體超純水工藝流程中?,F將他們的優缺點分別列于右邊:

設備優點
  • 水質穩定高


  • 系統產水率高







技術要求

采用膜表面高分子嫁接技術,產水TOC在20PPB以下,更適用電子級超純水系統。 高TOC脫除率、高抗污染能力、低TOC溶出率,TOC達標沖洗時間短、先進配套電源技術,能耗更低。

水質標準

1、ASTM-D5127-2007《美國電子學和半導體工業用超純水標準》

2、歐盟電子級超純水標準

3、中國電子工業國家標準

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